正胶显影液检测

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综合性检验测试研究所

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检测信息(部分)

1. 正胶显影液是什么?其核心用途是什么?

正胶显影液是光刻工艺中的关键化学品,主要用于去除曝光后的光刻胶可溶部分,形成精密图案,广泛应用于半导体、微电子及平板显示制造领域。

2. 第三方检测机构提供哪些正胶显影液检测服务?

检测服务包括成分分析、性能测试、纯度验证、污染物检测等,涵盖产品质量控制、工艺优化及环保合规性评估。

3. 检测报告的主要用途有哪些?

报告可用于供应商审核、生产质量监控、研发改进、进出口贸易合规性证明,以及应对行业标准或法规要求。

检测项目(部分)

  • 显影速率:衡量显影液溶解光刻胶的效率,影响工艺稳定性。
  • 金属离子含量:检测钠、钾等金属杂质,避免电路短路风险。
  • pH值:控制显影液酸碱度,确保显影过程一致性。
  • 粘度:影响显影液涂布均匀性和渗透性。
  • 固含量:反映有效成分浓度,决定显影性能。
  • 颗粒度:评估液体中微粒数量,防止基板污染。
  • 氯离子含量:过量氯离子可能腐蚀金属层。
  • 硫酸根含量:杂质可能影响光刻胶溶解选择性。
  • 有机溶剂残留:确保无有害溶剂残留,符合环保要求。
  • 表面张力:影响显影液与基材的接触效果。
  • 电导率:间接反映离子杂质总量。
  • 稳定性:测试存放期间性能变化。
  • 溶解性:验证与不同光刻胶的兼容性。
  • 纯度:通过色谱分析主成分占比。
  • 微生物限度:预防生物污染导致的工艺异常。
  • 重金属总量:符合RoHS等法规限制。
  • 蒸发残留物:评估挥发性物质占比。
  • 酸值/碱值:量化酸碱特性参数。
  • 闪点:评估运输存储安全性。
  • 折射率:辅助判断液体成分一致性。

检测范围(部分)

  • 半导体级正胶显影液
  • 高分辨率光刻显影液
  • 低温型显影液
  • 无苯环保型显影液
  • 水基显影液
  • 溶剂基显影液
  • 负性光刻胶配套显影液
  • 厚膜光刻胶专用显影液
  • 深紫外线(DUV)工艺显影液
  • 极紫外线(EUV)工艺显影液
  • 纳米压印显影液
  • PCB制程显影液
  • 彩色滤光片显影液
  • 玻璃基板显影液
  • 柔性基材显影液
  • 高吞吐量显影液
  • 低缺陷率显影液
  • 无金属离子显影液
  • 生物可降解显影液
  • 定制化配方显影液

检测仪器(部分)

  • 高效液相色谱仪(HPLC)
  • 电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)
  • 傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)
  • 紫外可见分光光度计
  • 自动电位滴定仪
  • 激光粒度分析仪
  • 旋转粘度计
  • 表面张力测定仪
  • 离子色谱仪(IC)
  • 热重分析仪(TGA)

检测标准(部分)

SJ/T 11511-2015 液晶显示器用 正胶显影液

SJ/T 11508-2015 集成电路用 正胶显影液

结语

以上是关于正胶显影液检测的介绍,如有其它问题请 联系在线工程师

 
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