等离子体刻蚀检测

第三方科研检测机构

综合性检验测试研究所

去咨询

检测信息(部分)

等离子体刻蚀检测是半导体制造工艺中重要的质量控制环节,主要用于评估刻蚀工艺的精度、均匀性和可靠性。等离子体刻蚀利用高频电场将气体电离形成等离子体,通过物理轰击和化学反应双重作用实现对材料的精确去除。该检测服务广泛应用于集成电路制造、微机电系统、功率器件、光电器件等领域,为工艺优化和产品质量提升提供数据支撑。

检测内容涵盖刻蚀速率测量、刻蚀深度分析、侧壁形貌表征、表面粗糙度评估、刻蚀选择比计算等核心参数。通过系统的检测分析,可帮助客户识别工艺缺陷、优化刻蚀参数、提升产品良率。检测报告将详细记录各项参数数据,为工艺改进提供科学依据。

检测范围(部分)

  • 单晶硅刻蚀检测
  • 多晶硅刻蚀检测
  • 二氧化硅刻蚀检测
  • 氮化硅刻蚀检测
  • 氧化硅刻蚀检测
  • 碳化硅刻蚀检测
  • 氮化镓刻蚀检测
  • 砷化镓刻蚀检测
  • 磷化铟刻蚀检测
  • 氮化铝刻蚀检测
  • 铝金属刻蚀检测
  • 铜金属刻蚀检测
  • 钛金属刻蚀检测
  • 钨金属刻蚀检测
  • 钽金属刻蚀检测
  • 光刻胶刻蚀检测
  • 低介电常数材料刻蚀检测
  • 高介电常数材料刻蚀检测
  • 有机聚合物刻蚀检测
  • 复合介质层刻蚀检测
  • 硅锗合金刻蚀检测
  • 铟锡氧化物刻蚀检测
  • 铂金属刻蚀检测
  • 镍金属刻蚀检测
  • 金金属刻蚀检测

检测标准(部分)

序号 标准号 标准名称 类别 发布日期 CCS分类 ICS分类
1 SJ 21130-2016 等离子体刻蚀机通用规范 (CN-SJ)行业标准-电子 2016-01-19 L95电子工业生产设备综合 31.240电子设备用机械构件
2 T/CI 1181-2025 半导体晶圆制造用等离子体刻蚀设备通用技术规范 (CN-TUANTI)团体标准 2025-09-30   31.080.99其他半导体分立器件
3 GB/T 43861-2024 微波等离子体原子发射光谱方法通则 (CN-GB)国家标准 2024-04-25 N04基础标准与通用方法 71.040.99有关分析化学的其他标准
4 GB/T 45609-2025 等离子体处理危险废物技术及评价要求 (CN-GB)国家标准 2025-05-30 Z01技术管理 13.020.40污染、污染控制和保护
5 GB/T 36244-2018 电感耦合等离子体原子发射光谱仪 (CN-GB)国家标准 2018-06-07 N53电化学、热化学、光学式分析仪器 71.040.10化学实验室、实验室设备
6 JB/T 14523-2023 电解质等离子体抛光机 (CN-JB)行业标准-机械 2023-12-29 J59特种加工机床 25.080.50磨床和抛光机
7 DB44/T 1934-2016 微波等离子体发射光谱方法通则 (CN-DB44)广东省地方标准 2016-12-02 X04基础标准与通用方法 71.040.01分析化学综合
8 DL/T 1127-2023 等离子体点火系统设计与运行导则 (CN-DL)行业标准-电力 2023-10-11 F22电力系统设备安装测试 27.060燃烧器、锅炉
9 SJ/T 11339-2015 数字电视等离子体显示器通用规范 (CN-SJ)行业标准-电子 2015-10-10 M74广播、电视发送与接收设备 33.040.30交换和信令系统
10 SJ/T 11378.6.1-2015 等离子体显示器件 第6-1部分:数字电视机用彩色等离子体显示器件详细规范 (CN-SJ)行业标准-电子 2015-04-30 L47其他 31.120电子显示器件
11 SJ/T 11378.7-2015 等离子体显示器件 第7部分:数字电视机用等离子体显示器件可靠性试验方法 (CN-SJ)行业标准-电子 2015-04-30 L47其他 31.120电子显示器件
12 QB/T 4711-2014 黄酒中无机元素的测定方法 电感耦合等离子体质谱法和电感耦合等离子体原子发射光谱法 (CN-QB)行业标准-轻工 2014-07-09 X62发酵酒 67.160.10酒精饮料
13 SJ 21128-2016 卧式等离子体化学气相淀积设备(PECVD)通用规范 (CN-SJ)行业标准-电子 2016-01-19 L95电子工业生产设备综合 31.240电子设备用机械构件
14 SJ 20477-1995 交流等离子体显示器件总规范 (CN-SJ)行业标准-电子 1995-05-25 L39其他电真空器件  
15 20242288-T-491 等离子体参数测试方法 (CN-PLAN)国家标准计划   L50光电子器件综合 17.180.99有关光学和光学测量的其他标准
16 GB/T 22181.6-2015 等离子体显示器件 第6部分: 数字电视机用等离子体显示器件空白详细规范 (CN-GB)国家标准 2015-06-02 L47其他 31.120电子显示器件
17 JJD 1015-1991 电感耦合等离子体直读光谱仪 (CN-JJ)行业标准-建筑机械 1991-08-01 A61化学计量  
18 20263394-T-491 空间环境 等离子体模型应用指南 (CN-PLAN)国家标准计划     49.020航空器和航天器综合
19 20255623-T-610 等离子体旋转电极制粉通用要求 (CN-PLAN)国家标准计划     77.160粉末冶金
20 DIN SPEC 91315:2025-07 General requirements for plasma sources for the generation of cold atmospheric pressure plasma (CAP) for medical applications; Text in German and English (DE-DIN)德国标准化学会 2025-07-01   07.030物理学、化学

检测方法(部分)

  • 扫描电子显微镜观测法
  • 原子力显微镜扫描法
  • 台阶仪接触测量法
  • 椭圆偏振光谱分析法
  • 光学显微镜观测法
  • 白光干涉测量法
  • 透射电子显微镜分析法
  • X射线光电子能谱分析法
  • 二次离子质谱分析法
  • 傅里叶红外光谱分析法
  • 电感耦合等离子体发射光谱法
  • 能谱分析法

检测项目(部分)

  • 刻蚀速率检测:表征单位时间内材料去除厚度,评估工艺效率
  • 刻蚀深度检测:测量刻蚀后结构深度,验证工艺精度
  • 刻蚀均匀性检测:评估晶圆不同位置刻蚀效果一致性
  • 刻蚀选择比检测:分析不同材料刻蚀速率比值
  • 侧壁垂直度检测:测量刻蚀侧壁与水平面夹角
  • 侧壁粗糙度检测:评估刻蚀侧壁表面平整程度
  • 底部粗糙度检测:测量刻蚀底部表面形貌
  • 刻蚀轮廓检测:分析刻蚀结构整体形貌特征
  • 刻蚀残留物检测:识别刻蚀后表面残留物质
  • 刻蚀损伤层检测:评估等离子体对材料表面损伤程度
  • 刻蚀临界尺寸检测:测量刻蚀结构关键尺寸精度
  • 刻蚀深宽比检测:分析刻蚀深度与宽度比值
  • 刻蚀钻刻检测:检测横向刻蚀程度
  • 刻蚀开孔率检测:评估刻蚀通孔完整性
  • 刻蚀台阶覆盖率检测:分析台阶处刻蚀均匀性
  • 刻蚀终点检测:确定刻蚀工艺终止时机
  • 等离子体密度检测:测量等离子体中带电粒子浓度
  • 刻蚀气体成分检测:分析刻蚀气体组成及纯度
  • 刻蚀温度检测:监测刻蚀过程基片温度变化
  • 刻蚀偏压检测:测量等离子体鞘层偏置电压
  • 刻蚀速率各向异性检测:评估不同方向刻蚀速率差异
  • 刻蚀表面形貌检测:表征刻蚀后表面微观结构
  • 刻蚀缺陷密度检测:统计刻蚀相关缺陷数量
  • 刻蚀负载效应检测:分析刻蚀面积对速率影响
  • 刻蚀微掩膜检测:识别刻蚀过程中微掩膜现象

检测仪器(部分)

  • 扫描电子显微镜
  • 原子力显微镜
  • 台阶仪
  • 椭圆偏振仪
  • 光学显微镜
  • 表面轮廓仪
  • 透射电子显微镜
  • X射线光电子能谱仪
  • 二次离子质谱仪
  • 傅里叶变换红外光谱仪
  • 四探针电阻测试仪
  • 薄膜应力测试仪
  • 接触角测量仪

总结

等离子体刻蚀检测是保障半导体制造工艺质量的重要技术手段,通过系统的检测分析可有效评估刻蚀工艺的各项关键参数。检测数据为工艺优化提供科学依据,有助于提升产品良率和生产效率。选择具备相应资质和能力的检测机构进行合作,可获得准确可靠的检测结果,为企业产品研发和质量控制提供有力支持。

结语

以上是关于等离子体刻蚀检测的介绍,如有其它问题请 联系在线工程师

 
咨询工程师